Conas Meaisín Litagrafaíochta Gan Masc a Roghnú Bunaithe ar Riachtanais CD agus Líne/Spáis

Oct 15, 2026

Fág nóta

ACHOIMRE FEIDHMIÚCHÁIN

Tá roghnú córas liteagrafaíocht gan masc (-scríobh díreach) ar cheann de na cinntí is straitéisí le haghaidh ardáis seomra glan. Cé go gcuireann teicneolaíocht gan masc deireadh le costais soláthair fótamasca fisiceacha (shábháil na mílte dollar in aghaidh an athbhreithnithe) agus go laghdaíonn sé timthriallta slánúcháin dearaidh ó sheachtainí go nóiméid, is minic a bhíonn míthuiscint bhunúsach ar shonraíochtaí teicniúla ag baint le roghnú trealaimh.

Is minic a dhéanann innealtóirí próisis agus foirne soláthair meastóireacht ar mheaisíní bunaithe ar fhigiúr amháin "íosmhéid gné" ar bhileog sonraí an díoltóra. I bhfisic fhótaliteagrafaíocht, áfach, is ionann Toise Criticiúil scoite (CD) agus páirc thréimhsiúil Íosta/Spáis (L/S) dlúth do réimis optúla ar leith:

• Sainmhíníonn Toise Chriticiúil (CD) an ghné iargúlta is cúinge (cosúil le geata trasraitheora scoite nó stríoc teagmhála) is féidir leis an gcóras optúil a nochtadh ar fhóta-resist.

• Sainmhíníonn Líne/Spás Íosta (L/S) an t-eagar tréimhsiúil líne 1:1 agus trinse athfhillteach is lú (cosúil le grátálacha optúla dlúth nó busanna idirnaisc ard-dlúis) ar féidir leis an gcóras a ghlanadh gan idirlinne, scumadh nó saobhadh gaireachta.

D’fhéadfadh go mbeadh íoslíne/spás 0.8 μm ag teastáil ó mheaisín atá in ann CD scoite 0.4 μm a phriontáil agus eagair thréimhsiúla dlútha á bpatrún de bharr éifeachtaí gaireachta optúla ón aeríomhá, forluí dáileog léasa, agus seasamh in aghaidh tairseacha codarsnachta. Os a choinne sin, is féidir le córais optúla speisialaithe a ndearnadh innealtóireacht orthu le haghaidh modhnú siméadrach 1:1 0.5 μm CD a réiteach ag an am céanna le líne 0.5 μm / spás.

Soláthraíonn an treoir seo dianchreat innealtóireachta chun córais liteagrafaíochta gan masc Nice-Tech (MLM 100, MLM 200, MLM 400, agus MLM 500) a mheas i gcoinne do chéimseata beacht gléis, seasamh in aghaidh na ceimice, doimhneacht fócais (DOF), agus riachtanais tréchur an tseomra ghlan.

 

1. RÉAMHRÁ: CÉN FÁTH A DHÉANANN GÉIMÉADÓIREACHT ROGHA TREALAIMH

I seomraí glan micreadhéantúsaíochta, tá fréamhshamhlú tapa, déantúsaíocht leathsheoltóra cumaisc, agus déantúsaíocht mheánmhéide athraithe ag córais liotagrafaíochta gan maisc (ar a dtugtar liteagrafaíocht scríofa díreach, teilgean gléas micreascáthán digiteach [DMD], nó córais modulator solais spásúil [SLM]). Trí dheireadh a chur le chrome fisiceach-ar-fótamhais ghrianchloch, is féidir le foirne innealtóireachta leagan amach dearaí (comhaid GDSII nó OASIS) a athrá i bhfíor-am.

Chun an meaisín ceart a roghnú, áfach, ní mór breathnú ar éilimh mhargaíochta ar an leibhéal dromchla atá caite-. Nuair a fhiosraíonn ceannaitheoirí ionchasacha faoi chumais trealaimh, is é an fiosrúchán is coitianta go simplí: "Cad é réiteach an mheaisín seo?"

I liteagrafaíocht táirgthe, ní uimhir amháin é "réiteach". Iompraíonn inneall optúil go héagsúil nuair a nochtar líne aonair aonraithe i gcomparáid leis na céadta línte comhthreomhara cóngaracha a nochtadh a bhfuil micriméadar eatarthu. Má roghnaítear cumraíocht trealaimh bunaithe ar dhlúthdhiosca leithlisithe nuair a bhíonn línte dlúth grátála ag teastáil ó do ghléas, is cinnte go dteipfidh ar an bpróiseas-dá bharr sin idirlinne líne, cur i gcoinne bonn, nó cóimheasa treoíochta laghdaithe. Os a choinne sin, má dhéantar córas d’fho-línte dlútha d’fho-línte leathmhiocrón a shonrú nuair nach bhfuil ach rianta ródúcháin 1.5 µm ar do ghléas, cuirtear caiteachas caipitil nach bhfuil gá leis agus laghdaítear go mór tréchur sliseog.

Chun infheistíocht chaipitiúil eolasach B2B a dhéanamh, ní mór do cheannaitheoirí na hidirdhealuithe fisiceacha idir CD agus líne/spás a dháileadh, iad a mhapáil go díreach chuig sonraíochtaí trealaimh an díoltóra, agus meastóireacht a dhéanamh ar na bunscaireanna trádála optúla.

 

2. AN SOCHAIR BÁTHACH: CD ISOLATED VS. LÍNE/SPÁS DÚS

Chun tuiscint a fháil ar cén fáth a dtuairiscíonn uirlisí optúla díreacha-a thuairiscíonn luachanna difriúla do CD leithlis agus do líne dlúth/spás ní mór scrúdú a dhéanamh ar fhisic foirmiú aeríomhánna, éifeachtaí optúla cóngarachta, agus ceimic fhóta-resist.

 

2.1 Cad is Toise Chriticiúil (CD) ann?

I méadreolaíocht leathsheoltóra, tagraíonn Toise Chriticiúil don eilimint gheoiméadrach is íogaire ó thaobh toisí laistigh de chiorcad iomlánaithe nó feiste MEMS. Go hiondúil, tagraíonn CD do ghné iargúlta:

• Méar geata leithlisithe ar thrasraitheoir Gailliam Nítríde (GaN) Ard-Leictreon-Trasraitheoir Soghluaisteachta (HEMT).

• Iomaire tonntreoraithe optúil scoite i gciorcad comhtháite fótóinic.

• Oscailt teagmhála iargúlta nó inse cantilever i braiteoir MEMS.

Nuair a bhíonn líne scoite á nochtadh i gcóras gan maisc, díríonn an t-inneall optúil fuinneamh nochta ar raon cúng de fhótaileictreach. Toisc nach bhfuil aon phatrúin nochtaithe cóngaracha sa gharchomharsanacht, scaipeann solas scaipthe ar seachrán (loibeanna taobh díraonta) go neamhdhíobhálach isteach sa pháirc dhorcha. Tríd an dáileog nochta, an cró uimhriúil, agus an t-am forbartha a chalabrú go beacht, is féidir le córas scríbhneoireachta díreach nua-aimseartha luachanna CD atá thar a bheith mín a bhaint amach-go minic síos go 0.4 µm.

 

2.2 Cad é Líne/Spás Íosta (L/S)?

I gcodarsnacht leis sin, tagraíonn Líne/Spás Íosta do raon dlúth de línte agus de spásanna ailtéarnacha, cumraithe go hiondúil i gcóimheas páirce 1:1 (leithead cothrom líne agus bearna trinse):

• Grátaí díraonta optúla, criostail fhótónacha, agus scátháin léasair aiseolais dáilte (DFB).

• Bithbhraiteoirí Leictreoid Idirdigitithe (IDE) ard-dlúis agus eagair mhicrileictreoidí (MEA).

• Páirceáil dlúth miotalaithe agus ródú bus in ardphacáistiú.

Nuair a theilgeann inneall optúil bíomaí dlúthspásúla iolracha nó picteilíní micreascáthán modhnaithe, forluíonn tonnta solais ó línte cóngaracha mar gheall ar dhíraonadh optúil. Cruthaíonn an crosstalk optúil seo "déine cúlra" ardaithe taobh istigh den trinse gan nochtadh idir línte.

Sainmhínítear codarsnacht optúil na híomhá ón aer leis an bhFeidhm Aistrithe Modhnúcháin (MTF):

Codarsnacht=(I_max - I_min) / (I_max + I_min)

De réir mar a bhíonn an pháirc ag teannadh, ardaíonn I_min (an déine sa spás dorcha) go mór os cionn náid mar gheall ar éifeachtaí gaireachta optúla. Má thiteann codarsnacht na híomhá ón aer faoi thairseach chodarsnachta cheimiceach an fhótaileictreach, ní féidir leis an bhfóta-resist idirdhealú a dhéanamh idir an líne nochta agus an trinse gan nochtadh. Táirgeann sé seo lochtanna seomra glan clasaiceach:

• Seas in aghaidh an Droichid: Forbairt neamhiomlán nuair a nascann línte cóngaracha le chéile.

• Resist scumming: Gásra fótairéiseach iarmharach fágtha in urlár na trinse.

• Cliseadh Patrún: Teip mheicniúil ar línte friotáin dlúth-chóimheas ard le linn triomú tuaslagóra.

 

2.3 Cén Fáth a Bhaineann MLM 200 amach 0.4 μm CD ach 0.8 μm Líne/Spás?

Feictear sampla den scoth den trádáil fhisiciúil seo i múnla MLM 200 Nice-Tech:

• Toise Chriticiúil (Scoite): 0.4 μm

• Líne/Spás Íosta (Dlúth 1:1): 0.8 μm

Tá an phróifíl pharaiméadar seo coitianta i liteagrafaíocht scríofa ard-beachtais dhíreach-. Baineann an MLM 200 úsáid as inneall seachadta optúil dírithe atá in ann gnéithe ultra-fíneáil scoite síos go 0.4 μm a scríobh. Mar sin féin, nuair a chuirtear línte taobh-le{-taobh{-taobh in eangach dhlúth 1:1, sainordaíonn iarmhairt chóngarachta optúil íos-spásáil 0.8 μm chun codarsnacht optúil leordhóthanach (I_max versus I_min) a chinntiú) chun an trinse a ghlanadh go hiomlán gan aon idirlinne.

I gcás forbróirí gléasanna cumhachta RF atá ag patrúnú geataí 0.4 μm GaN HEMT le spásáil draenála foinse leathan (2 μm go 5 μm), tá an MLM 200 optamach. Mar sin féin, má dhéanann an forbróir céanna iarracht gríl dlúth 0.4 μm / 0.4 μm a phriontáil (0.8 μm iomlán pitch), díghrádóidh an chodarsnacht optúil, rud a chuirfidh in aghaidh an droichid mura roghnaítear córas optúil atá optamaithe go sonrach le haghaidh eagair dlúth 1:1.

 

2.4 Cén Fáth a Bhaineann MLM 500 amach 0.5 μm CD agus Líne/Spás Siméadrach 0.5 μm?

I gcodarsnacht leis sin, gnéithe MLM 500 Nice-Tech:

• Toise Chriticiúil (Scoite): 0.5 μm

• Líne/Spás Íosta (Dlúth 1:1): 0.5 μm

Ionchorpraíonn an MLM 500 córas teilgin cró ard (ard-NA) atá péireáilte le modhnú solais spásúlachta ard agus cúiteamh i bhfo{4}}chiumhais picteilín. Coinníonn an chumraíocht optúil seo codarsnacht ard MTF fiú ag minicíochtaí optúla daingean, rud a ligeann don déine solais titim go géar sna réigiúin spásála dorcha. Mar thoradh air sin, is féidir línte dlúth 1:1 agus spásanna a réiteach go siméadrach síos go 0.5 μm gan scumming nó idirlinne.

 

3. MAITRÍS ROGHNÚCHÁIN TEICNIÚLA: LÍNEÁIL LITREAGRAFAÍOCHTA TECHNICAL IN NICE-

Déanann Nice{0}Tech ceithre mhúnla tiomnaithe liteagrafaíochta gan masc, agus déantar gach ceann díobh a innealtóireacht le haghaidh sainréimsí déantúsaíochta agus próifílí geoiméadracha. Leagtar amach sa tábla thíos na sonraíochtaí teicniúla oifigiúla:

=================================================================================================================

Samhail CD (Aonraithe) Líne/Spás Íosta (1:1) Fearann ​​Optúil Príomhúil Fócas Seomra Glan

=================================================================================================================

MLM 100             0.8 μm 1.0 μm Cothrom Ard-DOF Direct Write Ginearálta T&F, MEMS, Micr-shreabhach

MLM 200             0.4 μm 0.8 μm Fíneáil-Spot Fo-Micron Delivery GaN/GaAs RF, Power HEMT, Waveguides

MLM 400             1.0μm 2.0 µm ar Leathan-Réimse Ard-Tríchur Inneall Friotaíocht Tiubh, Pacáistiú RDL, Power ICs

MLM 500             0.5 μm 0.5 μm Ard-NA Codarsnacht Shiméadrach Innill Grátálacha Dlúth Optúla, MEA, Criostail

=================================================================================================================

 

3.1 Nice-Tech MLM 100: The Cleanroom Workhorse (CD: 0.8 μm|L/S: 1.0 μm)

Déantar an MLM 100 a innealtóireacht mar chnámh droma ilúsáideach d’ionaid nana-mhonaraíochta ollscoile ilúsáideoirí, saotharlanna tionsclaíochta T&F, agus áiseanna fréamhshamhail MEMS.

• Próifíl Gheoiméadrach: Réitíonn sé go hiontaofa gnéithe scoite síos go 0.8 μm agus línte dlúth tréimhsiúla síos go 1.0 μm.

• Tréithe Optúla: Feidhmíonn sé le Cró uimhriúil optúil atá optamaithe le haghaidh domhanleithead próiseála leathan. Soláthraíonn sé doimhneacht flaithiúil Fócais (DOF de ghnáth> 5 μm go 10 μm ag brath ar thiús friotáin), rud a fhágann go bhfuil topagrafaíocht dromchla an tsubstráit agus bogha beag wafer ag magadh.

• Comhoiriúnacht Próisis: Ag luí le fótairéitheoirí caighdeánacha deimhneacha i-líne / h{-líne novolac (amhail AZ 1500, AZ 4562, sraith Shipley S1800) agus friotáin dhiúltacha (SU-8, KMPR).

• Feidhmchláir Ghinearálta: Sreafaí micreashreabhach, micrishliseanna bithleighis, méadair luasghéaraithe cantiléar, athshonadóirí fuaimiúla, agus struchtúir chaighdeánacha tástála leibhéil sliseog.

• Moladh Soláthair: Roghnaigh an MLM 100 má láimhseálann do sheomra glan tionscadail ilghnéitheacha, má phróiseálann do sheomra glan tiús measartha (1.5 μm go 5 μm), agus nach dteastaíonn fo{3}}leath-méideanna gné miocrón.

 

3.2 Nice-Tech MLM 200: Beachtas le haghaidh Fo-ghléasanna Micrean - (CD: 0.4 μm|L/S: 0.8 μm)

Tá an MLM 200 tógtha go sainiúil do sheomraí glana a tháirgeann gléasanna optoelectronic ard-minicíochta, leathsheoltóra cumaisc agus beachta ina bhfuil gnéithe scoite faoi-mhicrón ríthábhachtach.

• Próifíl Gheoiméadrach: Baineann gné chriticiúil 0.4 μm amach do línte iargúlta, geataí, agus stiallacha teagmhála, agus cumas dlúth líne/spáis ag 0.8 μm.

• Tréithe Optúla: Úsáidtear optaic chun léasa speisialaithe a fhoirmiú agus rialú beacht ar dháileog nochta chun codarsnacht imill ar struchtúir iargúlta a ghéarú.

• Comhoiriúnacht Próisis: Feidhmíonn sé go heisceachtúil le fótairéirí codarsnachta tanaí ard- (0.5 μm go 1.2 μm tiús) mar AZ 6112, AZ 703, nó SPR 700. Tá rialú fócas níos déine ag teastáil ná an MLM 100.

• Feidhmchláir Ghinearálta: T-patrún geata beacán agus geataí do ghléasanna HEMT Gallium Nitride (GaN) agus Gallium Arsenide (GaAs), fótabhrathadóirí ardluais, ródú optúil tonntreoraithe, agus struchtúir ardaitheoir miotail scoite ó mhicrón.

• Moladh Soláthair: Roghnaigh an MLM 200 má éilíonn do phróiseas pátrún a dhéanamh ar gheataí criticiúla leithlisithe nó línte idir 0.4 μm agus 0.8 μm gan gá le eagair thréimhsiúla dlúth faoi 0.8 μm.

 

3.3 Nice-Teicneolaíocht MLM 400: Ard-Tréchur & Tiubh-Cuir i gcoinne Próiseáil (CD: 1.0 μm|L/S: 2.0 μm)

Tá an MLM 400 curtha in oiriúint do shaoráidí a thugann tosaíocht do thréchur nochta, próiseáil limistéir mhóra, agus comhoiriúnacht le fótaileictreoirí ultra-tiubh.

• Próifíl Gheoiméadrach: Cumraithe le haghaidh dlúthdhiosca scoite 1.0 μm agus íoslíne/spás 2.0 μm.

• Tréithe Optúla: Úsáideann sé réimse optúil teilgin níos mó agus traein optúil fócas ard ar doimhneacht. Cinntíonn an DOF sínte (go minic> 20 μm go 50 μm i bhfriotáin tiubh) go dtéann solas isteach go domhain trí scannáin tiubh gan uillinneacha taobh-bhallaí táireach.

• Buntáiste Tréchur: Toisc go gclúdaíonn gach fráma optúil limistéar nochta níos leithne, bíonn amanna scríofa sliseog i bhfad níos tapúla ná mar a bhíonn ar uirlisí réitigh fíneáil. Is féidir sliseog iomlán 100 mm nó 150 mm a nochtadh ar an MLM 400 a chur i gcrích laistigh de chodán den am a éilíonn fo-chórais mhiocrón.

• Comhoiriúnacht Próisis: Oiriúnach do -fhótaiteoirí scannáin tiubh (10 μm go 100 μm SU-8, AZ 4562, AZ 9260, polaimíd, BCB).

• Feidhmchláir Ghinearálta: Sraitheanna Athdháilte Ardphacáistithe (RDL), pacáistiú scála sliseanna leibhéalta wafer (WLCSP), barraí bus leathsheoltóra ardchumhachta reatha, máistirmhúnlaí micrea-shreabhach, múnlaí tiubh leictreaphlátála, agus MEMS bulc-mheicnithe.

• Moladh Soláthair: Roghnaigh an MLM 400 má tá do ghnéithe Níos mó ná nó cothrom le 1.0 μm, úsáideann do phróiseas bratuithe friotáin tiubh, nó is é tréchur ard wafer do phríomhthosaíocht tráchtála.

 

3.4 Nice-Teicn MLM 500: Siméadrach Ard-Taifeach Dlúis (CD: 0.5 μm|L/S: 0.5 μm)

Is é an MLM 500 córas suaitheanta Nice-Tech chun micri-mhonarú braiteoirí optúla, fótónacha agus dlútha tréimhsiúla a éileamh.

• Próifíl Gheoiméadrach: Seachadann sé dlúthdhiosca scoite 0.5 μm cothromaithe taobh le taobh líne/spáis 0.5 μm dlúth 1:1 (1.0 μm páirc ghríl iomlán).

• Saintréithe Optúla: Comhcheanglaíonn sé optaic teilgean ard-NA le modhnú chun cinn micreascáthán digiteach agus idirshuíomh imill picteilín. Sochtann an córas seo lobes taobh díraonta agus cuireann sé cosc ​​ar charnadh solais strae i trinsí cúnga.

• Comhoiriúnacht Próisis: Teastaíonn dianrialú teochta an tseomra ghlan (±0.5 céim ) agus friotáin chodarsnachta ard - (0.3 μm go 0.8 μm).

• Feidhmchláir Ghinearálta: Grátálacha díraonta fo-microin, meiteábhair optúla, tonntreoraithe criostail fhótónacha, trasduchtóirí tonnta fuaimiúla dromchla dlúth (SAW), bithbhraiteoirí idirdigiteacha, agus eagair mhicrileictreoidí (MEA).

• Moladh Soláthair: Roghnaigh an MLM 500 má tá ailtireacht do ghléis ag brath go mór ar struchtúir thréimhsiúla dlúthphacáistithe ar an leathscála miocrón.

 

4. TRÁDÁIL INNEALTÓIREACHTA Díorthaithe-OÍ: LUAS, DOF, AGUS AILÍNIÚ

Agus iad ag roghnú idir an MLM 100, 200, 400, agus 500, ní mór d'innealtóirí machnamh a dhéanamh freisin ar thrí pharaiméadar tánaisteacha ríthábhachtacha a théann i bhfeidhm go díreach ar oibríochtaí seomra glan laethúil:

 

4.1 Luas Nochta (Tréchur) vs Taifeach

In aon uirlis liteagrafaíocht scríofa dhíreach, tá trádáil bhunúsach fhisiciúil idir luas nochta agus taifeach optúil:

• Éilíonn taifeach mín (mar atá sa MLM 200 agus MLM 500) méid picteilín réamh-mheasta níos lú agus formhéadú níos airde, rud a chiallaíonn go bhfuil níos lú milliméadar cearnach den wafer nochta in aghaidh an tsoicind le haghaidh foinse solais cumhachta ar leith.

• Úsáideann taifeach réchúiseach (mar atá sa MLM 400) picteilíní réamh-mheasta níos mó, a chlúdaíonn limistéir nochta níos mó in aghaidh an tsplanc dhigitigh agus a mhéadaíonn go mór tréchur sliseog.

Riail na hOrdóige: Ná ceannaigh níos mó taifeach ná mar a theastaíonn ó ailtireacht do ghléis. Más é do líne miotail is déine ná 2.5 μm, má roghnaítear uirlis 0.4 μm méadóidh sé gan ghá amanna nochta ó nóiméad go huaire an chloig in aghaidh an sliseog.

 

4.2 Doimhneacht Fócais (DOF) agus Cuir in Aghaidh Tiús

Rialaíonn cothromóid doimhneacht fócais Rayleigh gach córas teilgin:

DOF=k₂ × λ / (NA)²

Tabhair faoi deara go laghdaíonn DOF le cearnóg an Cró Uimhriúil. Cruthaíonn lionsa ard-NA atá riachtanach le haghaidh taifeach fo-leath{{{}}miocrón, doimhneacht cúng fócais (go minic < 1.5 μm). Má dhéanann innealtóir iarracht friotóir 15 µm tiubh SU{-8 a chasadh ar uirlis ard-NA, d’fhéadfadh barr an fhriotóra a bheith i bhfócas fad is a éiríonn an bun go mór doiléir, ag cruthú ballaí taobh thíos nó fána.

• For thick resists (>10 μm): Soláthraíonn an MLM 400 an doimhneacht fócas riachtanach.

• Maidir le friotáin chaighdeánacha (1.5 μm go 5 μm): Soláthraíonn an MLM 100 cothromaíocht optamach taifeach agus DOF.

• Le haghaidh friotáin tanaí ultra-(< 1.0 μm): The MLM 200 and MLM 500 excel at fine line delineation.

 

4.3 Ciseal-go-Ailíniú Sraithe & Cruinneas Forleagan

Is annamh a fheidhmíonn uirlis liteagrafaíocht ina n-aonar; patrúin sé sraitheanna ar bharr struchtúir eitseáilte nó mhiotalaithe roimhe seo.

• Ailíniú Optúil ar an mBarr: Tá ceamaraí ardtaifigh ar mheaisíní ardtaifigh i ngach múnla de chuid Nice-Tech MLM, atá in ann marcanna muiníne a aithint go huathoibríoch, ag baint amach cruinneas forleagan ciseal-go hiondúil laistigh de ±0.5 μm go ±0.2 μm.

• Ailíniú Taobh Cúil: Riachtanach do MEMS trí-cuais slise, braiteoirí brú, agus vias feiste cumhachta. Fiosraigh faoi chumraíochtaí ceamara optúla taoibh infridhearg (IR) nó bun-má tá clárú dhá thaobh ag teastáil ó do phróiseas.

 

4.4 Solúbthacht an Fhoshraith agus Buntáistí Neamhmhaise

Murab ionann agus ailínithe teagmhála dochta nó steppers laghdaitheora a dteastaíonn -foshraitheanna cothroma caighdeánacha uathu, Nice-Soláthraíonn córais gan maisc ardteicneolaíochta comhoiriúnacht fhoshraithe uilíoch:

• Méideanna tsubstráit: sliseog iomlán (2-orlach, 4-orlach, 6-orlach, 8-orlach, agus 12-orlach) chomh maith le blúirí dísle scoilte neamhrialta (síos go dtí 5 mm × 5 mm).

• Ábhair Foshraithe: Sileacan caighdeánach, shilice comhleáite trédhearcach, Grianchloch, gloine, nítríde Gailliam (GaN), chomhdhúile sileacain (SiC), arsenide ghailliam (GaAs), niobate litiam, agus foshraitheanna solúbtha polaiméire.

• Uathfhócas Dinimiciúla: Cúitíonn fíor-ama rianaithe dromchla optúla go huathoibríoch earráid bogha agus ding an tsubstráit, ag cinntiú fócas comhsheasmhach ar fud na sliseog leathsheoltóra cumaiscthe warped.

 

5. TÁSTÁIL SAMPLACH WAFER & FÍORÚ MÉIDREOLAÍOCHTA SEM

Sula gcríochnaítear ceannach trealaimh caipitil, níor cheart go mbeadh ceannaitheoirí teicniúla ag brath go hiomlán ar bhileoga sonraíochta foilsithe. Athraíonn coinníollacha seomra glan, foirmlithe i gcoinne foirmithe, agus ceimic fhorbróra go forleathan idir áiseanna.

Spreagann Nice{0}Tech go láidir do chustaiméirí ionchasacha Tástáil Shamplach ar Nochtadh Wafer a dhéanamh sula n-eisítear Ordú Ceannaigh. Ba cheart go ndéanfadh an prótacal fíoraithe meastóireacht ar chúig chroí-pharaiméadair méadreolaíochta ag baint úsáide as Micreascópacht Scanadh Leictreon (SEM):

 

1. Comhionannas Toise Criticiúil (CDU 3σ): Déan sprioc-CD a thomhas thar 20 pointe ar a laghad trasna an wafer (lár, lár, imeall) chun a chinntiú go bhfuil éagsúlacht tríthoiseach laistigh de ±5%.

2. Imréiteach Dlús Líne/Páirce Spáis: Deimhnigh trí SEM tras-go bhfuil trinsí dlúth 1:1 saor ó scumming, micrea-drochrú, nó seasamh-tonnbhonn.

3. Uillinn an Bhalla Taoibh: Deimhnigh go sáraíonn próifílí balla taoibh an fhótaileictreach 85 céim (nó go meaitseálann siad do riachtanas próisis, mar shampla próifílí foghearrtha aisghrádaithe le haghaidh ardaitheoir-as).

4. Garnacht Imeall Líne (LER) & Garnacht Leithead Líne (LWR): Iniúchadh a dhéanamh ar íomhánna SEM ard-mhéadaithe-síos chun imill mhíne na líne a fhíorú, atá ríthábhachtach maidir le caillteanas tonntreoraithe fótóinic agus feidhmíocht geata RF.

5. Cruinneas Forleagan: Déan patrún tástála ar scála níos fearr thar ciseal ailínithe atá ann cheana féin chun atrialltacht clárúcháin a fhíorú ar fud limistéar iomlán an tsubstráit.

 

6. SEICLIOSTA RÉAMH-Soláthar: CAD A ULLMHÚ SULA nIARRANN SÍ AR LUACHMHEAS

Chun luachan cruinn agus saincheaptha a fháil ó Nice-Ba cheart d’fhoirne innealtóireachta teicneolaíochta, soláthair agus próisis an seicliosta teicniúil seo a leanas a ullmhú:

[ 1 ] . Sonraíocht an tSubstráit Sprice:

• Ábhar: Sileacan, Grianchloch, Sapphire, GaN, SiC, Gloine, nó eile.

• Formáid: Trastomhas wafer (m.sh., 4-orlach, 6-orlach, 8-orlach) nó sceallóga beaga cleaved (m.sh., 10 mm × 10 mm).

• Bail Dromchla: Snasta, miotalaithe, trédhearcach, nó báite (sonraigh bogha i micriméadair).

[ 2 ] . Riachtanais Ghné Céimseata:

• Toise Chriticiúil Íosta (líne iargúlta, geata, nó poll teagmhála).

• Líne/Spás Íosta (riachtanas páirce dlúth eagair).

• Caoinfhulaingt ciseal criticiúil (m.sh., sprioc CD ± 5%).

[ 3 ] . Próiseas Photoresist:

• Cineál fótairéiteach: Ton dearfach, diúltach nó déthonach.

• Ainm an fhótaisintéise: (m.sh., AZ 5214E, SU-8 2010, Shipley S1813).

• Tiús scannáin sprioc: (m.sh., 0.8 μm, 2.5 μm, 25 μm).

[ 4 ] . Riachtanais Ailínithe & Sraithe:

• Nochtadh sraithe singil nó clárú ilchiseal.

• Modh ailínithe: Infridhearg optúla nó backside barr (IR).

• Cruinneas forleagan sprice: (m.sh., < 0.5 μm).

[ 5 ] . Toirt Tréchur & Táirgeachta:

• Toirt sliseog ionchais: (m.sh., 5 sliseog/seachtaine le haghaidh T&F vs. 50 sliseog/lá le haghaidh táirgeadh píolótach).

• Ceanglas uathoibrithe: Láimhseáil tsubstráit de láimh nó láimhsiú leath-uathoibríoch caiséad.

[ 6 ] . Formáid Sonraí Leagan Amach:

• Comhaid dearadh caighdeánach réidh: GDSII, OASIS, DXF, nó CIF.

 

7. CONCLÚID AGUS NA CÉAD CHÉIMEANNA NÍOS: COMHPHÁIRTÍOCHT LE NICE-TECH

Chun an córas ceart litagrafaíochta gan masc a roghnú, beidh gá le dlúthdhiosca scoite, líne dlúth/airde spáis, doimhneacht fócais, tiús in aghaidh, agus luas táirgeachta a chothromú.

• Má tá capall oibre T&F ar fad ag teastáil ó do sheomra glan, soláthraíonn an MLM 100 solúbthacht agus domhanleithead próiseála nach ionann.

• Má tá d'fhócas faoi-gnéithe scoite ó mhicrón le haghaidh RF agus leictreonaic cumhachta, soláthraíonn an MLM 200 cruinneas CD 0.4 μm.

• Má láimhseálann d'áis friotáin tiubha, ardphacáistiú, nó má éilíonn tú uas-thréchur, is é an MLM 400 an caighdeán tionscail.

• Má theastaíonn eagair thréimhsiúla 0.5 μm dlúth 1:1 1:1, grátálacha, nó struchtúir fhótónacha ó d'fheidhmchláir, seachadann an MLM 500 sármhaitheas optúil siméadrach.

 

An bhfuil tú réidh chun do dhearaí a mheas ar Chóras Litgrafaíochta Gan Masc Nice-Tech?

Tabhair cuairt ar leathanach táirge oifigiúil Nice-Tech chun mionsonraíochtaí meaisín a fhiosrú:

Maskless Lithography Machine

 

Meaisín Litagrafaíocht Masc

 

Déan teagmháil lenár bhFoireann Innealtóireachta Feidhmchláir Shinsearach ag dmjsemi.com chun do phatrúin tástála CAD/GDSII a chur isteach le haghaidh nochtadh wafer samplach saor in aisce agus iniúchadh méadreolaíochta SEM. Déanfaimid togra trealaimh a chumrú a ndearnadh innealtóireacht sonrach air le haghaidh treochlár teicniúil agus buiséadach do sheomra glan.

 

Déan teagmháil anois

 

 

Glaoigh Linn