Forbhreathnú táirge
Is córas tiomnaithe é ár dtrealamh sputtering scannán carbóin a tógadh chun sraitheanna cosanta scannán carbóin ar ardteocht a chur i dtaisce ar fheistí SiC. Úsáideann sé ailtireacht bhraisle is féidir a chumrú le seomraí próisis iolracha, agus tagann sé le luchtú agus díluchtú uathoibríoch wafer. Trí theicneolaíocht scannáin DLC (Diamond{{{}}cosúil le carbón) a chur i bhfeidhm, cuireann sé cosc go héifeachtach le cailciú dromchla ar sliseog SiC le linn anáil ardteochta, ag seachadadh cosaint dromchla cobhsaí agus iontaofa.
Buntáistí
Tacaíonn an dearadh braisle le seomraí próisis iolracha, rud a ligeann do scálú solúbtha méideanna baisc éagsúla a mheaitseáil agus éifeachtúlacht táirgthe iomlán a threisiú.
Laghdaíonn luchtú agus díluchtú uathoibríoch idirghabháil láimhe, feabhsaíonn sé atrialltacht próisis, agus tacaíonn sé le próiseáil bhaisc leanúnach.
Déanann próiseas scannáin DLC cailceáil dromchla wafer SiC a shochtadh go héifeachtach, cáilíocht an dromchla a chaomhnú agus feidhmíocht agus iontaofacht gléas a fheabhsú.
Sroicheann an seomra sputtering bhfolús deiridh Níos lú ná nó cothrom le 6E-5Pa, agus rialaítear aonfhoirmeacht thiús an scannáin laistigh de ±5%, ag cinntiú bratuithe comhsheasmhacha ardchaighdeáin.
Mar gheall ar chomhoiriúnacht le sliseog 6-orlach agus 8-orlach tá an córas inoiriúnaithe do línte táirgeachta éagsúla agus do riachtanais phróisis.
Feidhmchláir
Úsáidtear an trealamh seo go príomha chun sraitheanna cosanta scannáin charbóin a ullmhú le haghaidh feistí SiC, go háirithe le linn próisis anáil ardteochta. Tacaíonn sé le sliseog SiC 6-orlach agus 8{-orlach araon, rud a fhágann go bhfuil sé oiriúnach do T&F agus do olltáirgeadh gléasanna leathsheoltóra tríú glúin amhail gléasanna cumhachta SiC, gléasanna RF, agus comhpháirteanna leictreonacha eile atá bunaithe ar SiC.
CCanna
C: 1. Cén úsáid a bhaintear as trealamh sputtering scannán carbóin?
A: Úsáidtear é chun sraitheanna cosanta scannán carbóin ardteochta a thaisceadh ar fheistí SiC, go háirithe le linn anáil ardteochta chun cailciú dromchla a chosc.
C: 2. Cad iad na príomhbhuntáistí a bhaineann leis an trealamh seo?
A: Tá dearadh braisle aige, luchtú / díluchtú uathoibríoch, teicneolaíocht scannáin DLC, ardfheidhmíocht i bhfolús, agus aonfhoirmeacht tiús maith.
C: 3. Cad iad na méideanna wafer a thacaíonn sé?
A: Tacaíonn an trealamh seo le sliseog SiC 6-orlach agus 8-orlach le haghaidh déantúsaíocht leathsheoltóra agus T&F.
C: 4. An féidir é a chosc cailceadh dromchla wafer SiC?
A: Sea, cuireann a phróiseas scannán DLC faoi chois go héifeachtach cailc le linn anáil ardteochta agus cosnaíonn sé cáilíocht sliseog.
C: 5. Cé chomh beacht atá an próiseas sciath?
A: Sroicheann an seomra sputtering níos lú ná nó cothrom le bhfolús 6E-5Pa, agus déantar aonfhoirmeacht tiús an scannáin a rialú laistigh de ± 5%.
C: 6. An bhfuil sé oiriúnach le haghaidh táirgeadh mais?
A: Sea, tá an struchtúr braisle agus an láimhseáil uathoibríoch thar a bheith oiriúnach do T&F agus do tháirgeadh feiste SiC ar scála mór.
C: 7. Cá háit a gcuirtear an trealamh seo i bhfeidhm go coitianta?
A: Úsáidtear go forleathan é i leathsheoltóirí tríú glúin le haghaidh feistí cumhachta SiC, feistí RF, agus comhpháirteanna leictreonacha gaolmhara.
Clibeanna Te: córas sputtering maighnéadron carbóin, monaróirí córas sputtering maighnéadron carbóin tSín, soláthraithe
