Forbhreathnú táirge
Sa líne táirgeachta leathsheoltóra, is trealamh ríthábhachtach fíor-riachtanach é an Córas Cumhdach agus Forbartha, atá riachtanach ón fhréamhshamhail sliseanna tosaigh go dtí foirmiú patrúin ciorcad. Tar éis an tsubstráit a fháil, gníomhaíonn an Córas Cumhdach agus Forbraíochta an córas rothlaithe ardluais. Scaipeann an photoresist go cothrom leis an luas atá rialaithe go beacht, agus is féidir fiú na himill leibhéil milliméadar a bheith brataithe go réidh-is í an chéim seo an tástáil cruinneas is mó, agus beidh tionchar ag diall beag ar fheidhmíocht an tslis ina dhiaidh sin.
Ní mór an photoresist brataithe a leigheas fós. Déanfaidh pláta téimh tógtha-an Chórais Brataithe agus Fhorbartha théamh suas de réir a chéile chun go gcloífidh an ciseal greamaitheach go daingean leis an tsubstráit. Tar éis don mheaisín liteagrafaíocht an nochtadh a chríochnú, glacann sé an próiseas forbartha láithreach. Trí theocht agus déine spraeála an fhorbróra a rialú, baintear an ciseal greamaitheach breise gan nochtadh, agus mar sin nochtar patrún bunúsach an chiorcaid chomhtháite.
In úsáid phraiticiúil, tá cruinneas leithead líne an Chórais Brataithe agus Forbartha go háirithe iontaofa, agus tá sé oiriúnach do phróisis déantúsaíochta sliseanna éagsúla. Thairis sin, tá an cumas táirgthe, is luachmhaire sa líne táirgeachta, den scoth freisin. Féadann sé líon mór foshraitheanna a phróiseáil in aghaidh na huaire, agus úsáid íseal cuimhne aige. Féadann sé oibriú go leanúnach ar feadh níos mó ná deich n-uaire an chloig go cobhsaí, agus féadann sé coimeád suas go hiomlán leis an rithim mais-tháirgthe.
Déan teagmháil lenár n-ionadaithe díolacháin le do thoil chun an réiteach is oiriúnaí duit a fháil.
Buntáistí
Braitheann -déantúsaíocht sliseanna ardchruinneas ar theicníc beachtas brataithe casadh, rud a chinntíonn feidhmiú comhleanúnach fótaileictreach agus a laghdaíonn go mór na deacrachtaí próiseála ina dhiaidh sin.
Is furasta fadhbanna casta amhail ailíniú uainiúcháin agus aistriú sliseog idir gléasanna a láimhseáil trí mhodhanna rialaithe comhoibríocha speisialta.
Mar thoradh ar dhul chun cinn suntasach i gcruinneas rialaithe teochta, aonchineálacht ag leibhéal nanascála, agus rialú lochtanna tá rátaí toraidh os cionn 90%.
Tá an tuaslagán sciath casadh speisialaithe oiriúnach do gach cineál foshraithe agus féadfar é a chur i bhfeidhm ar sliseoga le tiús éagsúla agus cruthanna neamhghnácha.
Déantar aonfhoirmeacht agus éifeachtúlacht a chothromú le luas casadh optamaithe agus brú brataithe, rud a íslíonn caillteanais toraidh go mór agus a dhéanann sé níos éasca sliseanna a mhonarú le cruthanna neamhrialta.
Paraiméadair
①DS 100

|
Forbhreathnú Gléas DS 100 |
|||
|
Méid an ghléis (mm) |
2825*1080*1600 2C2D+ Comhéadan |
Méid wafer |
sliseog 2-6 orlach (50mm-100mm) |
|
WPH |
Níos lú ná nó cothrom le 160pcs |
MTTR |
Níos lú ná nó cothrom le 4 uair an chloig |
|
Rátáil Fiúntais |
Class1@0.1μm Limistéar aistrithe wafer amháin |
MTBF |
Níos mó ná nó cothrom le 1000 uair an chloig |
|
Próiseas is infheidhme |
líne mé, PI, PR |
MTBM |
>sé mhí |
|
Ábhar teagmhála wafer |
PEEK/PTFE/CERAMICS |
Ráta briste wafer |
Níos lú ná nó cothrom le 0.01% |
|
Caiséid |
SMIF; CAISÉAD OSCAILTE |
UP AM |
Níos mó ná nó cothrom le 95% |
|
Limistéar iarratais |
Leathsheoltóir cumaisc, ciorcad iomlánaithe, feiste cumhachta, tionscadal taighde eolaíoch, feiste optúil, IC, IGBT, MOSFET, MEMS, wafer warping, wafer cearnach |
Timpeallacht runtime bogearraí |
Windows 10 nó córas oibriúcháin níos déanaí |
|
Leithead líne íosta |
350nm |
Modúl pláta fuar agus te |
(HP; CPL; ADH; HHP) Níos lú ná nó cothrom le 14PCS |
②DS 200

|
DS 200 Forbhreathnú ar an nGléas |
|||
|
Méid an ghléis (mm) |
1660*1510*2000 (Dearadh Túir) |
Méid wafer |
sliseog 2-6 orlach (50mm-100mm) |
|
WPH |
Níos lú ná nó cothrom le 150pcs |
MTTR |
Níos lú ná nó cothrom le 4 uair an chloig |
|
Rátáil Fiúntais |
Class1@0.1μm Limistéar aistrithe wafer amháin |
MTBF |
Níos mó ná nó cothrom le 1000 uair an chloig |
|
Próiseas is infheidhme |
líne mé, PI, PR |
MTBM |
>sé mhí |
|
Ábhar teagmhála wafer |
PEEK/PTFE/CERAMICS |
Ráta briste wafer |
Níos lú ná nó cothrom le 0.01% |
|
Caiséid |
SMIF; CAISÉAD OSCAILTE |
UP AM |
Níos mó ná nó cothrom le 95% |
|
Limistéar iarratais |
Leathsheoltóir cumaisc, LED, feiste optúil, IC, IGBT, MOSFET, MEMS, wafer warping, wafer cearnach |
Timpeallacht runtime bogearraí |
Windows 10 nó córas oibriúcháin níos déanaí |
|
Leithead líne íosta |
350nm |
Modúl pláta fuar agus te |
(HP; CPL; ADH; HHP) Níos lú ná nó cothrom le 14PCS |
③DS 300

|
Forbhreathnú Gléas DS300 |
|||
|
Méid an ghléis (mm) |
2850*1360*2200 2C2D+ Comhéadan |
Méid wafer |
sliseog 4-8 orlach (100mm- 200mm) |
|
WPH |
Níos lú ná nó cothrom le 160pcs |
MTTR |
Níos lú ná nó cothrom le 4 uair an chloig |
|
Rátáil Fiúntais |
Class1@0.1μm Limistéar aistrithe wafer amháin |
MTBF |
Níos mó ná nó cothrom le 1000 uair an chloig |
|
Próiseas is infheidhme |
líne mé, PI, PR |
MTBM |
>sé mhí |
|
Ábhar teagmhála wafer |
ASML, Nikon, CANON, CECT, SMCC |
Ráta briste wafer |
Níos lú ná nó cothrom le 0.01% |
|
Caiséid |
SMIF; CAISÉAD OSCAILTE |
UP AM |
Níos mó ná nó cothrom le 95% |
|
Limistéar iarratais |
Leathsheoltóir cumaisc, ciorcad iomlánaithe, feiste cumhachta, sliseanna cuimhne, tionscadal taighde eolaíoch, feiste optúil, IC, IGBT, MOSFET, MEMS, wafer warping, wafer cearnach |
Timpeallacht runtime bogearraí |
Windows 10 nó córas oibriúcháin níos déanaí |
|
Leithead líne íosta |
180 nm |
Modúl pláta fuar agus te |
(HP; CPL; AD; DHP) Níos lú ná nó cothrom le 24PCS |
④DS 400

|
Forbhreathnú Gléas DS 400 |
|||
|
Méid an ghléis (mm) |
3975*1655*2550 4C4D+ Comhéadan |
Méid wafer |
sliseog 6-8 orlach(150mm- 200mm) |
|
WPH |
Níos lú ná nó cothrom le 180pcs |
MTTR |
Níos lú ná nó cothrom le 4 uair an chloig |
|
Rátáil Fiúntais |
Class1@0.1μm Limistéar aistrithe wafer amháin |
MTBF |
Níos mó ná nó cothrom le 1000 uair an chloig |
|
Próiseas is infheidhme |
I líne, KrF, ArF, PI, PR, Pacáiste |
MTBM |
>sé mhí |
|
Ábhar teagmhála wafer |
ASML, Nikon, CANON, CECT, SMCC |
Ráta briste wafer |
Níos lú ná nó cothrom le 0.01% |
|
Caiséid |
FOUP; SMIF; CAISÉAD OSCAILTE |
UP AM |
Níos mó ná nó cothrom le 95% |
|
Limistéar iarratais |
Leathsheoltóir cumaisc, ciorcad iomlánaithe, gléas cumhachta, sliseanna cuimhne, tionscadal taighde eolaíoch, IC, IGBT, MOSFET, MEMS, wafer warping, wafer cearnach |
Timpeallacht runtime bogearraí |
Windows 10 nó córas oibriúcháin níos déanaí |
|
Leithead líne íosta |
90nm |
Modúl pláta fuar agus te |
(LHP; CPL; ADH; HCH; PHP; HCP) Níos lú ná nó cothrom le 38PCS |
⑤DS 500

|
Forbhreathnú Gléas DS 500 |
|||
|
Méid an ghléis (mm) |
5370*2100*2650 4C4D+ Comhéadan |
Méid wafer |
8- 12 sliseog orlach(200mm- 300mm) |
|
WPH |
Níos lú ná nó cothrom le 200pcs |
MTTR |
Níos lú ná nó cothrom le 4 uair an chloig |
|
Rátáil Fiúntais |
Class1@0.1μm Limistéar aistrithe wafer amháin |
MTBF |
Níos mó ná nó cothrom le 1000 uair an chloig |
|
Próiseas is infheidhme |
I líne, KrF, ArF, PI, PR, Pacáiste |
MTBM |
>sé mhí |
|
Ábhar teagmhála wafer |
ASML, Nikon, CANON, CECT, SMCC |
Ráta briste wafer |
Níos lú ná nó cothrom le 0.01% |
|
Caiséid |
FOUP; SMIF |
UP AM |
Níos mó ná nó cothrom le 95% |
|
Limistéar iarratais |
Leathsheoltóir cumaisc, ciorcad iomlánaithe, feiste cumhachta, sliseanna cuimhne, tionscadal taighde eolaíoch, IC, IGBT, MOSFET, MEMS, wafer warping, wafer cearnach, CoWoS |
Timpeallacht runtime bogearraí |
Windows 10 nó córas oibriúcháin níos déanaí |
|
Leithead líne íosta |
45nm |
Modúl pláta fuar agus te |
(LHP; CPL; ADH; HCH; PHP; HCP) Níos lú ná nó cothrom le 42PCS |
Teastas



Clibeanna Te: sciath agus córas a fhorbairt, an tSín sciath agus a fhorbairt córas monaróirí, soláthraithe

